前世，EUV光刻机的联合研发成功几乎逼近当时人类物理学、材料学以及精密制造的极限，除了光源功率要求极高，透镜和反射镜系统也极致精密，还需要真空环境，配套的抗蚀剂和防护膜的良品率也不高，别ASmL或Nikon，就算是科技实力世界第一的美国，以一国之力，完全自主制造一台EUV光刻机，比登还难。
EUV光刻机被称为人类工业皇冠上的明珠！
汤普森院士团队虽然没有研制成功EUV，但研究成果对GcA的光源和光学精密设备的不断改进贡献极大。
由于孙健重生，濒临破产倒闭的GcA浴火重生，重回全球光刻机的龙头企业之一，成为EUVLLc联媚重要成员，汤普森院士团队专门研究EUV光源7年，取得了不少重要技术成果，EUVLLc联盟研制成功EUV光刻机，肯定不需要15年。
GcA将成为全球唯一生产EUV光刻机的厂家，AtIc将成为最大的受益者，虽然孙健也乐见其成，但以美国饶性格，极有可能让AtIc交出GcA的控股权，严禁出口EUV到中国，这不是重生者愿意看到的结果。
前世被美国技术封锁，举国之力，孙健穿越前没有看到国产EUV光刻机的影子。
经过一年多的努力，bSEc已经研究成功8英寸晶圆、250nm制程工艺的光刻机，正在抓紧时间研制180nm制程工艺的光刻机。
制程工艺不断突破对bSEc来都是突飞猛进的进步，但同Nikon和GcA相比，还有2代技术差距，没有大肆宣传，避免被仇视中国的美国国会议员盯上。
不到10年时间，从4代技术差距缩短到2代，bSEc的管理层和技术人员都尽力了。
孙健知道，要是没有65nm制程工艺这道难关挡在光刻机业界的前面，有他出钱出力，bSEc在15年内也很难赶上光刻机技术实力雄厚的GcA和Nikon。
连李昌杰都不知道，bSEc研究院院长邓国辉院士和所长钱富强研究员率领光源研究所的140多名研发人员，经过2年半的潜心研究，有孙健不断“点拨”，终于在去年7月研制成功浸没式光刻系统技术，ArF激光器发射的193nm光源通过纯净水的折射，得到了波长134nm的光源，解决了业界遇到的193nm波长的世界级难题，还没有申请公司发明专利，秘而不宣。
只能委屈钱富强和140多名研发人员了。
研究员钱富强凭借主持研发成功浸没式光刻系统技术，攻克这项光刻机光源上的世界级难题，凭借这一世界级的重大科研成果，就能申请工程院院士。
邓国辉和钱富强从去年8月开始立项，bSEc投资1亿元，带领光源研究所，静下心来开始研发EUV。
作为上市公司，bSEc发布公告，投资1亿元继续研究193nm波长的世界级难题。
即使能得到蔡司公司最先进的透镜和反射镜系统，有资金支持，孙健也怀疑bSEc研究院在20年内能否研制成功EUV光刻机？
停止研究也不可能买到EUV光刻机，20年不行，30年！
“李总，布罗迪先生，余总已经拿到美国商务部的同意文件，我们明前往美国，180nm制程工艺的半导体生产线的基建要加快进度，增加人手，保证11月底完工。”
try{ggauto();} catch(ex){}
孙健今参观的这条bSEc研发和生产的500nm制程工艺半导体生产线的建设工程已经到了设备安装阶段，按照规划，7月下旬将进行试生产。
“好的，董事长！”
“好的，董事长！”
李昌杰和布罗迪都笑了，他们从心底敬佩孙董事长的精明和胆识。
pGcA这次从GcA购买一条180nm制程工艺的半导体生产线是为国智电脑公司生产GZ-cx3准备的，从3月初提交购买申请，pGcA就已经开工大规模基建项目，孙董事长笃定美国商务部这次不会反对GcA的出口申请。
陈永清院士率领国智cpU研究所台式机cpU研发部的600多名研发人员，从去年10月4日就开始研制比肩pentium3和Athlon700的GZ-cx3。
GZ-cx3设计采用双重独立总线结构，内部集成1000万个晶体管，频率从500mhz开始，后期可以达到1Ghz以上，采用180nm制程工艺生产。
研发费用2.5亿元，耗时10个月。
按照规划，国智cpU研究所今年9月前就能研发成功GZ-cx3，到时候有米没有锅！
这条180nm制程工艺的半导体生产线的基建规模庞大，要是放在美国，最少需要12个月的时间，顺圆地产集团集中力量，日夜施工，争取在6个月内完成基建工程，进入设备安装阶段，8个月后进行试生产。
GcA提前准备好全套设备，提前运往国内。
不是孙健不想提前购买，也不是差钱，而是担心美国商务部以违反《瓦森纳协定》为由拒绝，一旦申请被否决，最少要等6个月时间才能再申请。
今年2月，GcA和Nikon公司研发的90nm制程工艺的光刻机才量产。
量产后，pGcA才敢向美国商务部申请购买，GcA同时申请出口。
按照美国政府的德行，一般会将90nm制程工艺的GcA光刻机卖给Intel、Amd等美国高科技公司，将180nm制程工艺的GcA光刻机卖给三星和台积电，将250nm制程工艺的光刻机卖给pGcA，但250nm制程工艺的bSEc光刻机已经量产，研制成功180nm制程工艺的bSEc光刻机只是时间问题，一旦研制成功，就不需要耗费巨额美元进口180nm制程工艺的光刻机了！
pGcA上次能买到一条250nm制程工艺的半导体生产线是沾了江领导的光！这次能买到180nm制程工艺的半导体生产线不是美国商务部发善心，而是250nm制程工艺的bSEc光刻机量产起了决定性的作用，加上美国经济开始下滑。
由于贪婪和过度乐观，特别是对互联网兴起推动的数据流量的增长，在1996年美国电信法案生效后的五年里，美国的电信设备公司的投资规模超过5000亿美元，其中大部分是从纳斯达克交易所融资，加上发行公司债券，开始铺设光缆、添加程控交换机和建设无线网络，容量的快速增长大大超过了市场需求的增长。
当网络科技股泡沫破灭后，融资变得困难时，不少公司因为高负债率导致破产清算，债券投资者最多能收回20%的投资。